製品情報

バッチプロセス装置

• 高品質成膜・高性能半導体製造装置「TSURUGI-C²®  剱®」
• 高生産性縦型装置 「AdvancedAce®-300」
• バッチ高温アニール装置
• 200mmウェーハ対応バッチサーマルプロセス装置 「VERTEX® Revolution」

枚葉プロセス装置

• 枚葉プラズマ窒化・酸化装置「MARORA®」
• 枚葉キュア・アニール装置「TΛNDUO®」
• 枚葉アッシング装置「Lambda300」

その他

• 薄膜形成プロセス技術
• グループ会社取り扱い製品
• サービスサポート
• トレーニングセンタ

企業情報

• 社長あいさつ
• 会社概要（役員一覧・組織図）
• 本社・事業所・グループ会社
• コーポレートプロファイル951KB

CSR情報

• CSR報告書
• CSR報告書補足データ
• GRI内容索引（対照表）323KB

採用情報

新卒採用

• 求める人財
• 社員紹介
• 人財開発
• 採用データ
• 採用プロセス
• よくある質問（FAQ）
• 連絡・書類送付先

経験者採用

• 募集要項
• 採用プロセス

• ニュースリリース
• お問い合わせ
• 当サイトのご利用にあたって
• 個人情報保護に関して